2月21日，佳能推出半導(dǎo)體制造用晶圓測量機“MS-001”，該產(chǎn)品可以對晶片進行高精度的對準測量�！癕S-001”所搭載的調(diào)準用示波器安裝有區(qū)域傳感器，可以進行多像素測量，降低測量時的噪音。另外，“MS-001”還可以對多個種類的對準標記進行測量。通過采用新開發(fā)的調(diào)準用示波器光源，新產(chǎn)品可提供的波長范圍比在半導(dǎo)體光刻設(shè)備中測量時大1.5倍，能夠以用戶所需的任意波長進行對準測量。因此，相較于在半導(dǎo)體光刻設(shè)備中所進行的測量，“MS-001”所能實現(xiàn)的對準測量精度要更高。

通過引進解決方案平臺“Lithography Plus”（2022年9月上市），可以將有關(guān)半導(dǎo)體光刻機和“MS-001”的運轉(zhuǎn)情況的相關(guān)信息集中到“Lithography Plus”中。將“MS-001”在半導(dǎo)體器件的制造工藝中所獲取的測量數(shù)據(jù)和“Lithography Plus”所集中的信息進行對照監(jiān)測，就可以檢測出晶圓表面對準信息的變化，并在半導(dǎo)體光刻機上進行自動校正。這樣就可以實現(xiàn)從對準測量到曝光工藝的集中管理，為降低CoO做貢獻。